Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics, 23 (4), P. 393-399 (2020).
DOI: https://doi.org/10.15407/spqeo23.04.393

Дослідження ефективності полімеризації фоточутливих композицій за допомогою методу поверхневого плазмонного резонансу
В.М. Гранчакsup1, В.Г. Сисюк2, Г.В. Дорожинська3, В.П. Маслов4, Г.В. Дорожинський4, О.О. Кудрявцев4, Н.В. Качур4

1Інститут фізичної хімії імені Л.В. Писаржевського НАН України, 31, просп. Науки, 03680 Київ, Україна E-mail: granchakvm@ukr.net
2Інститут хімії високомолекулярних сполук НАН України 48, Харківське шосе, 02160 Київ, Україна
3Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» 37, просп. Перемоги, 03056 Київ, Україна
4Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України, 41, просп. Науки, 03680 Київ, Україна
E-mail: annakushnir30@ukr.net

Анотація. У масштабах реального часу було досліджено процес полімеризації світлочутливих композицій на основі олігуретанакрілатів з різними концентраціями фотоініціаторів за допомогою методу поверхневого плазмонного резонансу. Експериментально визначено: швидкість полімеризації та індукційний період для досліджуваних зразків композицій, а також оптимальне співвідношення їх компонентів для вибраної довжини хвилі опромінення 407 нм. Було встановлено, що зі збільшенням концентрації фотоініціаторів Irgacure 651 та Irgacure 819 від 1 до 2% швидкість полімеризації збільшується відповідно в 3 та 7 разів, тоді як індукційний період зменшується майже в 2 та 10 разів відповідно. Наявність Irgacure 819 в цих композиціях забезпечує найбільшу швидкість полімеризації та найменший час індукції, що пов’язано з оптимальним вибором довжини хвилі джерела опромінення всередині спектра поглинання ініціатора, а також з мінімальним конкурентним поглинанням в інших компонентах фотополімерної композиції. Ці дослідження корисні для розробки оптимальних композицій досліджуваних матеріалів у різних галузях промисловості.

Ключові слова: поверхневий плазмонний резонанс, показник заломлення, фоточутлива композиція, фотополімеризація, фотоініціатор.

Текст статті (PDF)


Назад до 23 (4)

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NoDerivatives 4.0 International License.